四月十六日,通城,徐申学在智云微电子有限公司的总部里,举办了一场半导体会议。



会议主要针对现有七纳米以及五纳米工艺的产能扩充,未来三纳米工艺、二纳米工艺的技术攻关进行了讨论。



逻辑芯片是徐申学非常关注的一个领域,但是也不仅仅只是关注这个领域。



在储存芯片领域里徐申学也非常关注……因为储存芯片市场目前看似平静,但是新一轮的大规模价格战正在酝酿当中。



上一轮储存芯片市场的价格战,是两年前,当时的智云储存试图靠着先大规模量产的10c工艺玩价格战,四星半导体紧跟身后,试图联手打压海力士以及镁光。



但是出手过于仓促,资金准备也不是很妥当,最重要的是当时的10c工艺节点产能不够,10b工艺的竞争力也比较一般,最终导致效果不是很好。



搞了一四败俱伤的价格战,除了损失各自的利润外,没起到什么实际作用。



而现在,智云储存这边,打算再来一次!



这一次,他们将会准备的更加充分!



而这一次的半导体会议里,在储存芯片领域的讨论,其实也是为了下一轮的储存芯片市场的技术战以及价格战而准备。



闪存领域,根据会议讨论,将会重点围绕一百层到一百五十层之间的成熟3d nand闪存芯片进行大规模的产能扩充,同时建设扩充两百层以上的3d nand闪存芯片的大规模量产。



虽然两百层以上的闪存芯片已经有了,但是受限于成本以及产能问题,目前其实并不是主流。



主流储存芯片的层数,中高端产品是在一百层到一百五十层节点,而这个中高端市场,也是四大储存芯片巨头的核心营收以及利润来源……是支撑其研发新一代技术,建设下一代新工艺产能的战略支撑。



只要能够在这个市场区间里挤死对手,就等于断了对手的粮草,对方将会在新工艺的研发,新工艺的产能建设上落后……以后就只能玩落后市场了。



半导体制造业非常残酷的,一步落后就是步步落后。



而领先者,就能够在新一代工艺上获得丰厚的营收以及利润,进而形成良性循环!



智云集团,在逻辑芯片领域里的领先优势,就是这么一步一步积累起来的!



现在,在储存芯片领域里也这么玩!



储存芯片除了3d nand这种闪存芯片外,还有一个核心产品那就是运行内存芯片。



半导体会议上,确认了进一步大规模扩充相对成熟的10c工艺内存芯片的产能,要求在两年内把这个核心工艺的产能再翻一番。



要打价格战,充足的产能是前提……要不然产能就一点点,供不应求的话,还打什么价格战啊!



扩大成熟工艺产能的同时,并进一步推进到10d工艺,即第四代十纳米工艺,其实际工艺节点规划为12纳米的量产计划,要求在今年秋天完成技术验证,明年就大规模出货!



10c成熟工艺担任主力,直接玩大规模降价,冲击对手的基本盘,让对手的现金流迅速枯竭,失去维持下一代工艺研发以及制造现金流!



新工艺的研发和制造,很耗费资金的!



同时使用顶级技术……对手一时半会追不上的10d先进工艺占领高端市场,以维持整体利润。



这是一套组合拳,是价格战和技术战的双重结合!



智云半导体部门很喜欢这么打击对手……大多时候效果都挺好的。



其中的10d工艺,就承担着非常重要的责任:要趁机抢占高端市场,并且在10c工艺的利润迅速降低的时候,以自身利润给整个智云储存业务回血!



不然到时候10c工艺大规模降价销售,利润暴跌的时候,又没办法用10d工艺回血,这样的话就尴尬了。



10c以及10d工艺,这是智云集团在内存芯片领域的工艺代称,10c工艺的实际工艺节点为14纳米。



这也是目前全球范围内大规模量产工艺里最顶级的工艺,该工艺出现的还比较早,一度领先了四星半导体……不过四星半导体没多久就追上来了,没能形成太久的技术优势。



目前的10c工艺,是智云集团旗下各种高端内存芯片的主要量产工艺,这两年智云集团的很多终端产品里,都能找到采用该种工艺的高端内存。



目前智云集团旗下的智云储存的hb3高带宽内存,也就是apo6000显卡上使用的内存,就是采用这一工艺制造。



智云集团旗下的s系列手机,如去年发布的s20ax pro旗舰级,上面采用的lpddr5内存芯片,也是采用这一工艺……智云储存旗下的lpddr5高性能高速内存,也是目前最顶级的低功耗内存,性能甚至超过了四星的lpddr5内存产品。



其原因就是来源于代工生产lpddr5内存的智云微电子,其10c工艺的所提供的卓越性能。



现在的10c工艺,依旧是目前量产工艺里的顶级工艺,当然,已经无法大幅度领先对手了。



因为四星半导体,镁光,海力士都已经陆续追上来并拥有了该级别工艺……他们的同级别工艺有好有坏,但是整体处于同一级别,区别不是很大。



现在,智云微电子在内存工艺领域里,已经是全力朝着更先进的10d工艺冲击,其工艺节点为12纳米。



智云微电子的内存芯片的工艺划分,早期是采用30纳米,25纳米,20纳米!



后来进入十纳米工艺时代后,第一代采用10a工艺,实际工艺节点为18纳米。



第二代10

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