《自律就变帅！高冷校花绷不住了！》 第536章 他们要造的，是国产EUV光刻机！
三位院士。
顾明远提到这个阵容的时候，陈知远就知道，这次邀请绝不是让他过去挂个名字。
此前的联合项目规模已经不小，这次却又高了一个层级。
邀请函只写明参与身份和报到要求，具体内容并未透露。
两天后。
一处联合科研中心的会议室里，顾明远把他领到靠前的位置。
会议桌边坐着十来个人，最年轻的看上去也有三十多岁。
几个人正在低声讨论，投影幕布上停着一幅密密麻麻的曲线图。
陈知远刚坐下，一位头发花白的老人便抬起头。
“陈知远？”
“周院士，您好。”
老人笑了笑：“我看过你们那篇论文，瑞士那边开会的时候，有人把你的报告发给我了。”
他叫周启山，是这次专项整机系统方向的负责人之一。
“你之前做的是精密光学和测量，跟我们这里有不少相通的地方。”
周启山说着，示意旁边的工作人员切换投影。
“不过，我得先让你知道，我们究竟在做什么。”
屏幕亮了起来，一行字出现在最上方。
【国产极紫外光刻装备关键技术联合攻关。】
下面还有一个数字：13.5nm。
陈知远的目光微微一凝，“EUV光刻机？”
“对。”
周启山没有卖关子。
“准确地说，是围绕国产EUV原型平台开展整机攻关，光源、反射光学、工件台、测量和控制，各家单位都有自己的任务，我们现在最头疼的，是把这些东西真正拧成一台能稳定工作的机器。”
会议室安静了下来。
EUV光刻机不是有了光就能造芯片。
它要把极小的图形一次次准确地投到指定位置，稍有偏差，就可能整片报废。
眼下原型平台已经完成基础曝光验证，却远没达到稳定工作的程度。
“看这两组结果。”
周启山指向屏幕。
第一张图上，排列整齐的线条清晰可见。
第二张图却明显不同。
同样的测试条件，连续进行多次曝光后，图形的位置出现了逐渐累积的偏移。
“单次结果能做得漂亮，连续工作就不稳定。”
负责控制系统的一位研究员开口道：
“我们把光学系统和工件台分开测过，指标都在允许范围内，但整机运行时，误差总会在某些阶段突然放大。”
另一位专家补充：“光学组怀疑热负荷引起的形变是主因，控制组认为工作台动态补偿还存在问题，两边都有证据，现在最难的是确定先解决哪一个。”
方向一旦选错，设备占用、重复标定，可能白白耗掉几个月。
顾明远提到这个阵容的时候，陈知远就知道，这次邀请绝不是让他过去挂个名字。
此前的联合项目规模已经不小，这次却又高了一个层级。
邀请函只写明参与身份和报到要求，具体内容并未透露。
两天后。
一处联合科研中心的会议室里，顾明远把他领到靠前的位置。
会议桌边坐着十来个人，最年轻的看上去也有三十多岁。
几个人正在低声讨论，投影幕布上停着一幅密密麻麻的曲线图。
陈知远刚坐下，一位头发花白的老人便抬起头。
“陈知远？”
“周院士，您好。”
老人笑了笑：“我看过你们那篇论文，瑞士那边开会的时候，有人把你的报告发给我了。”
他叫周启山，是这次专项整机系统方向的负责人之一。
“你之前做的是精密光学和测量，跟我们这里有不少相通的地方。”
周启山说着，示意旁边的工作人员切换投影。
“不过，我得先让你知道，我们究竟在做什么。”
屏幕亮了起来，一行字出现在最上方。
【国产极紫外光刻装备关键技术联合攻关。】
下面还有一个数字：13.5nm。
陈知远的目光微微一凝，“EUV光刻机？”
“对。”
周启山没有卖关子。
“准确地说，是围绕国产EUV原型平台开展整机攻关，光源、反射光学、工件台、测量和控制，各家单位都有自己的任务，我们现在最头疼的，是把这些东西真正拧成一台能稳定工作的机器。”
会议室安静了下来。
EUV光刻机不是有了光就能造芯片。
它要把极小的图形一次次准确地投到指定位置，稍有偏差，就可能整片报废。
眼下原型平台已经完成基础曝光验证，却远没达到稳定工作的程度。
“看这两组结果。”
周启山指向屏幕。
第一张图上，排列整齐的线条清晰可见。
第二张图却明显不同。
同样的测试条件，连续进行多次曝光后，图形的位置出现了逐渐累积的偏移。
“单次结果能做得漂亮，连续工作就不稳定。”
负责控制系统的一位研究员开口道：
“我们把光学系统和工件台分开测过，指标都在允许范围内，但整机运行时，误差总会在某些阶段突然放大。”
另一位专家补充：“光学组怀疑热负荷引起的形变是主因，控制组认为工作台动态补偿还存在问题，两边都有证据，现在最难的是确定先解决哪一个。”
方向一旦选错，设备占用、重复标定，可能白白耗掉几个月。
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