功率密度分布可以手动拉宽,补偿曲线也能开放到工程师端,屏幕上每一个参数栏都能点进去改。



沈明轩盯着光斑功率密度分布的设置栏,手指停在触控屏边缘。



禁运公告发布后,他这几天一直在看同一个问题,如果日本设备再也进不来,光芯实验室不能一边骂禁运,一边继续按日本设备的工艺窗口找答案。



只能用国产设备。



那就在国产设备的可调范围里找最优解。



之前他们卡在零点八,是因为梯度刻蚀的侧壁粗糙度已经压到一个平台,继续用窄而尖的光斑去修饰侧壁,边缘热影响区会很不均匀,越往下调,损耗改善越小。



如果把光斑功率密度拉宽,用开环模式做更大的软件补偿,侧壁上形成的熔融层会更均匀,粗糙度也许能再往下。



沈明轩拿起记号笔,在白板上画了两条曲线。



一条窄而尖,是旧设备的光斑分布;一条宽而平,是华科样机能给出的分布。



工程师陈宇航站在旁边,看着那条宽曲线:“沈博,这样耦合效率会不会掉?”



“会掉一部分。”



沈明轩在宽曲线中段画了一个圈:“但我们不要最高耦合效率,我们要侧壁更均匀的能量分布,先试这个窗口。”



另一个工程师翻着工艺表:“那波导刻蚀后的热处理参数也要跟着改。”



沈明轩点头:“三项一起动:光斑宽度、功率密度、补偿曲线,其他参数不动。”



陈宇航看了眼旧记录:“这是新窗口,没有历史数据。”



沈明轩把记号笔扣上:“没有就跑出来。”



第一轮参数调整用了很久,华科精密的控制软件还带着早期样机的痕迹,有两个界面跳转不顺,一名工程师把问题记进联调清单,另一名工程师在控制台旁手动复核输入值。



沈明轩没有催,他站在设备旁边,看着光源模块稳定下来,屏幕上的功率曲线从上下抖动慢慢收窄。



样片被放入测试位,国产光源耦合设备启动,光信号进入波导,测试平台开始采集数据。



屏幕上的衰减值先是不断跳动,从零点九附近往下压,又在零点七附近来回浮动,操作工程师没敢抬头,手指停在键盘旁边。



等数据稳定后,屏幕上显示出一行结果。



光损耗,零点六五分贝每厘米。



操作工程师盯着那行字看了一会儿,又打开原始采样文件核对了一遍,他把曲线放大,确认没有采样断点,才转头叫人。



“沈博,你看这个数字。”



沈明轩走过去,弯腰看屏幕,眼镜片上反着蓝色光,他没有碰鼠标,只看着那条从零点八往下跳的曲线。



实验室里几个人都停下了手里的活。



沈明轩抬起头,“再跑一遍”。



第二轮,零点六六。



第三轮,零点六四。



三轮平均,零点六五。



陈宇航把三组数据打印出来,纸从打印机里吐出来时,边角还带着热意,沈明轩接过报告,看着损

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