光子芯片研发中心的测试台前,第四轮波导样片的数据正在一点一点往外跳。



屏幕左侧叠着三条旧曲线,第一条095db/,第二条088db/,第三条082db/,三条线的终点都被沈明轩用红笔在打印稿上圈过。



实验室里只有设备运行的低响。



两个工程师站在他身后,一个手里拿着记录板,一个盯着实时数据窗口。



沈明轩手里捏着一支红笔,笔帽被他扣在尾端,笔尖悬在打印稿上方。



这一轮从上午开始跑,样片编号是g-4-17,工艺记录里多了一行备注,梯度刻蚀窗口二次修正。



年轻工程师看了一眼前三轮数据,小声说:“沈老师,前三轮趋势是往下的,095,088,082。”



沈明轩没有抬头。



屏幕上的第四条曲线开始成型,前半段比第三条更低一点,中段有一小段抬头,又慢慢下去。



沈明轩把鼠标移到曲线尾端,等最后一个数据点刷新出来。



第四轮数据全部跑完。



屏幕上四条曲线完整叠在一起,从上到下分得清楚,每一条都比前一条低。



沈明轩拿起红笔,在打印稿第一条曲线旁画了一个箭头。



11→095,刻蚀角度容差过大,高温测试时额外散射损耗明显。



第二个箭头。



095→088,梯度刻蚀后,侧壁粗糙度从12n降到8n。



第三个箭头。



088→082,刻蚀时间窗口继续收窄,端面损耗没有继续放大。



第四个箭头画到一半,他的笔停住。



曲线终点旁边,测试条件一行一行列着,1550n,室温,te模式,样片编号g-4-17,重复测试三次。



最终读数,08db/。



旁边的工程师低头确认原始文件名,又看向主屏:“沈老师,重复测试三次都在08上下,偏差没有超。”



沈明轩把鼠标移到原始数据导出按钮上,保存,备份,签名。



工程师伸手想把打印稿拿去复印,沈明轩先按住了。



他把四个箭头重新看了一遍,红笔从11一路滑到08。



实验室里仍没人说话。



年轻工程师终于没忍住,低声说:“破了。”



沈明轩退后半步,看着屏幕上的四条线。



“08。”



他把红笔盖好,放在测试台边。



“方向对了,梯度刻蚀是通的。”



这句话落下,记录板上的工程师才把刚才空着的结果栏补上。



08db/。



沈明轩打开电脑里的六周攻关计划。



文件第一栏写着,第一阶段,突破08db/。



他在这一栏右侧打了一个勾。



勾打

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