没有人能想到,光刻工厂居然引起了这么大的反应。



但是,当这件事情真的发生了之后,就没有人还能控制得住了。



风车国的阿斯麦也罕见地站了出来,对于光刻工厂方案进行评价。



作为目前光刻设备领域的龙头企业。



更是占据市场主流的巨无霸。



阿斯麦毫无疑问是这个领域的权威。



所以阿斯麦说出来的内容,自然就带有极强的权威性。



“尊敬的业界同仁和合作伙伴:近期,我们注意到某些市场传闻称,某些企业正试图通过所谓的‘光刻工厂’方案,即利用大型同步辐射光源设施替代传统euv光刻机,来‘绕开’全球半导体产业的技术壁垒,作为全球光刻技术的领导者,asl有必要从技术规律与产业现实出发,对此类设想提出专业质疑。”



“一、技术可行性:物理定律的边界不可逾约……”



“光源本质差异,同步辐射光源的物理特性与euv光刻所需的135n高功率、高稳定性激光等离子体光源存在根本性矛盾……”



“系统集成灾难,光刻机是10万级精密零件的系统集成艺术,而“光刻工厂”试图将光源、光学系统、掩模台、晶圆台等模块分散于百米级设施中,震动、温度、尘埃控制等基础工程问题足以摧毁任何纳米级的精度要求……”



“二、商业逻辑:背离产业规律的空想。”



“成本黑洞,同步辐射光源的建设与维护成本高达百亿,且单词暴光能耗堪比小型城市用电量,反观asl的euv光刻机,虽单价15亿欧元,但其每小时处理300片晶圆的效率已摊薄至每片芯片成本可忽略不计。若“光刻工厂”量产7n芯片,其单位成本将是现有技术的千倍以上。”



“产业链割裂,半导体制造是全球化分工的典范。asl的euv光刻机依赖德-国蔡司镜头、白头鹰联盟国的cyr激光器、樱花国的光刻胶等5000余家供应商的协同创新。所谓“光刻工厂”试图以举国之力重构全链条,但即便抛开技术障碍,其供应链效率也将落后国际水平至少15年——正如华-国的28n duv光刻机仍无法实现asl 2007年scan xt:1900gi的可靠性与吞吐量。”



“三、战略误判:对产业生态的破坏性冲击。”



“扰乱市场秩序。来自华国的订单占asl全球营收的25,且需求集中于成熟制程。若强行将资源倾注于违背物理规律的技术路径,不仅将导致本土晶圆厂丧失竞争力,更可能引发全球成熟制程产能过剩危机。”



“知识产权风险:asl已监测到多起来自某国企业工程师通过逆向工程、专利规避手段模仿duv光刻机的案例,若“光刻工厂”依赖类似策略,其知识产权纠纷将重创该国半导体产业的国际信誉。”



“最后,我们再次重申一下我们的立场,合作优于对抗。”



“我们理解各国对技术自主的渴望,但是半导体产业需要理性和敬畏,asl的high-na euv光刻机已实现8n线宽,且每瓦曝光效率提升20,这才是产业公认的下一代方向。我们呼吁全球客户回归商业本质:与其寄希望于投资数百亿于“光刻工厂”这类科幻项目,不如与asl共同优化成熟制程生态。”



“物理定律没有国界,但违背规律的技术豪赌终将付出代价。”



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