上沪微电子(SMEE),由他们完成整机的集成和调试,然后整机还要交付给华芯国际,用于实际的晶圆流片生产。”



常浩南双手半举,不断扩大着比划的范围,条理清晰地分析道:



“在这个链条上,涉及的单位和人员层级很多……您知道,其实对于限制级的材料和技术,我们国家目前其实已经建立了一整套比较完善、运行多年的内部规定和法律法规。”



“从材料的加工损耗比例控制、边角料的回收处理流程,到涉密人员的审查和管理制度,都有明确、细致的规章可循,而且都是在长期实践中形成的平衡点。”



常浩南看向栾文杰:



“如果在这个基础上无限制加码,那么在安全层面带来的边际收益会非常小,反而会大大增加各个协作环节的沟通成本,拖慢研发验证的进度,最终影响到整个ArF-1800光刻机项目,乃至后续流片生产的时间表。”



“这属于典型的得不偿失,我们追求的是又快又稳地形成战斗力,而不是把自己锁进一个绝对安全但寸步难行的保险箱里。”



栾文杰眉头依然没有完全舒展。



很明显,他内心的担忧并未完全消除:



“常院士,你说的道理我都懂,流程繁琐确实影响效率,但是……”



他深吸一口气,目光重新扫过火炬实验室的主楼:“这种材料对于我国半导体产业、对于整个高新技术领域在未来几十年的意义……实在太重大了!”



“万一,我是说万一因为某个环节的疏漏,导致技术细节甚至实物样本流失出去……这个损失,我们承受不起!”



看着栾文杰脸上那犹如“护犊子”般的焦虑神情,常浩南露出会心一笑。



“这样的担忧可以理解。”他的语气带着安抚,但更多的是强大的自信,“不过,栾主任您可能把负折射材料体系……想得过于简单了。”



栾文杰表情一滞。



这样直白的说法,他已经挺长时间没听到过了。



但又无法反驳。



“Ga-Ge(0001)材料本身固然是核心,是基础。”常浩南解释道,“但光有材料,是远远不够的。”



他伸出一根手指:“如何利用这种具有颠覆性光学性质的材料,设计并制造出损耗率尽可能低、性能稳定可靠的实用化透镜组?这需要全新的设计理论和工艺路线。”



“第二,”他又竖起一根手指,“如何建立一套完整的、能够精确描述和预测这种材料与光相互作用的‘表面等离子体波导负折射理论’?这又是一项浩大的工程。”



“第三,”第三根手指竖起“怎样对构成透镜的金属-介质多层膜结构进行反复迭代、优化设计,以实现最优的性能?”



“第四,怎么才能结合‘波导谐振腔’的物理特性,来增强倏逝波的强度并精确控制其传播,从而最大化提升成像效率和分辨率?”



“……”



常浩南把手收了回去,总结道:



“这些,才是我们真正意义上的护城河。”



“就算我们火炬实验室明天就把Ga-Ge(X)系列负折射材料挂到官网上面,直接标价出售成品……也绝不会有第二家机构或企业能

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