存在的。”



尽管隔着面罩,但众人还是能感觉到,栾文杰原本皱着的眉头舒展开来。



而张汝宁语气却变得慎重起来:



“至于20nm以下级别的特征尺寸,将是另一个维度的挑战……实际上,随着芯片制程逼近硅材料的物理极限,量子隧穿效应将变得无法忽视,晶体管将难以有效关断,漏电流剧增,同时微观层面的不确定性会急剧放大,导致器件性能的波动性大幅增加。”



“一般认为这个临界尺寸会在10nm左右,但考虑到衍射极限的存在,以及任何工业产品都不可能做到真正意义上的完美无缺,就算是使用EUV光刻机,要想稳定量产特征尺寸在20nm以下的产品,也会非常非常困难,而且良率会不可控制的降低。”



随后,他做了一个总结性的判断:



“我个人认为,随着边界效应的递增,未来芯片性能提升的主要驱动力,将从过去单纯依赖制程微缩,转向更依赖于芯片架构创新、先进封装技术、还有底层驱动软件和算法的深度优化……”



张汝宁坦诚地摊了摊手:



“只不过,这后面几项,就不是我们搞光学的人能专精的了。”



这番论述,让栾文杰登时陷入沉默,面罩下的呼吸明显变得粗重了几分,白色的雾气在护目镜内侧迅速凝结又消散。



半导体科技即将撞上当前理论天花板!



这对于单纯追求技术进步的科学家而言或许令人沮丧,但对于此时此刻正面临外部高压、急需时间窗口来巩固自身产业链的华夏来说,却是个绝佳的良机。



“好!好!好!”



栾文杰连说了三个好字,声音透过面罩带着压抑的激动,却很好地控制住了情绪外露:



“常院士张研究员,还有各位奋战在一线的同志们,你们的成果和这番分析,给了我,也给了决策层最急需的底气和最清晰的方向!”



他用力地点了点头,目光再次扫过平台上那小巧却蕴含巨大能量的物镜模组,以及那片刻着“F”字的晶圆,仿佛要将这景象深深印入脑海……



……



大约一小时后,参观结束。



一行人换掉密闭难受的防护服,重新回到外部空间。



“我回去之后,会以最快速度,将今天的所见所闻,特别是ArF-1800物镜系统的实测性能数据、量产能力评估以及关于技术极限的战略分析,形成一份详实报告。”



解除了身上的束缚之后,栾文杰的语气变得轻快起来:



“这份报告将作为最核心的决策依据,直接呈送最高层,它将为我们在即将到来的、更高层面的科技博弈中,提供最坚实的支撑和最有力的反击武器!”



说完,他不再耽搁对常浩南示意了一下,便转身带着随行人员准备离开。



然而,常浩南的声音却又一次从身后传来:



“栾主任,请留步。”



栾文杰脚步一顿,疑惑地回头。



常浩南已走到他身边,脸上带着一种古怪的笑意,目光投向无尘室侧壁另一扇不起眼的门:



“时间还早,既然来都来了,那么隔壁还有一

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