陈立峰将一份红色封皮的绝密文件放在了许晨的办公桌上,他的呼吸有些急促,眼神中透着难以掩饰的激动。



“许总,上面传来的消息。”陈立峰压低了声音,汇报最新的进度,“上微电子那边的整机集成,已经到了最后一步了。”



许晨翻文件的手微微一顿,抬起头看向陈立峰:“具体进度到哪了?”



“硬件的物理组装已经全部完成。”陈立峰如实汇报道,“长天的物镜、天卓的工作台、天虹的光源,以及上面调配过来的三百多个国产核心辅助系统,已经全部接驳完毕。目前,贺建国总工程师正带领团队进行最后一步的软硬件底层协议握手,以及光路的极限微调。”



陈立峰深吸了一口气:“贺总工说,这几天只要光路对齐的偏差值修正到容错区间内,就可以正式开始‘初光测试’(FirSt Light),也就是第一次真正的晶圆曝光了。上面负责专项的大佬目前也已经在魔都坐镇了。”



许晨静静地听完,目光落在那份绝密文件上。



到了这一步,就意味着这台汇聚了华国最顶尖制造能力、承载着无数半导体人希望的65纳米干式DUV光刻机,已经是一个完整的生命体了。它现在只差最后一口气,就能真正苏醒。



“这就是临门一脚了。”许晨站起身,走到落地窗前。



“是的,一旦初光测试的数据能稳定在65纳米的线宽内,就证明整机的机械协同和光学折射没有任何问题,华国半导体设备的腰杆子,就真正挺直了。”陈立峰在一旁说道。



65nm干式DUV光刻机。



在后世那些动辄7nm、5nm甚至3nm的EUV(极紫外)光刻机面前,65nm听起来似乎有些落后。



但作为一名穿越者,许晨非常清楚,65nm干式光刻机,是华国半导体工业必须跨过去的一道天堑,也是一切高级工艺的基石!



因为物理定律决定了,193nm波长的激光,在空气中(干式)折射的物理极限,最多只能雕刻出65nm的线宽。



只要掌握了65nm干式光刻机,就意味着华国在光刻机最核心的机械控制、光学镜片研磨和光源稳定性上,真正达到了世界一流水平。



而跨过了这一步,接下来的路就清晰了。



只要在镜头和晶圆之间加入一层纯水(即浸没式光刻技术),利用水的折射率,就能把同样的193nm激光波长,等效缩短到134nm。



这样一来,这台65nm的干式光刻机,稍微一升级,就能顺理成章地变成可以制造45nm、28nm甚至通过多重曝光达到14nm工艺的浸没式DUV光刻机!



万丈高楼平地起,而这台65nm干式机,就是那块最坚固的地基。



许晨转过身,沉声说道:“订机票。不要动用集团资源,用个人的名义订两张飞魔都的票,越低调越好。明天一早,我们去上微电子。”



“明白。”陈立峰立刻点头。



整机集成的最后一步,犹如攀登珠穆朗玛峰的最后十米。许晨知道,他必须亲自去现场,见证这个属于华国工业史上的关键时刻。



......



(四章更新,各位读者大大求催更求免费的小礼物,接下来就是65nm的成功,然后到2018年就可以稳定量产,升级

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